Описание:

Универсальная кластерная система

Система BPM может конфигурироваться шестью различными процессными модулями: магнетронное напыление на постоянном токе (DC), магнетронное напыление на ВЧ токе (RF), комбинированное напыление (DC/RF), напыление со смещением, дегазация и мягкое травление

 

 

 

 

 

Основные возможности:

• Работа с подложками до 300 мм
• Модульная конструкция подложкодержателя позволяет быстро переоснащать систему под подложки различных типоразмеров
• Возможность магнетронного напыления до 4-х материалов одновременно
• Подвод до 4 технологических газов к одному процессному модулю
• Нагрев (до 500°С), охлаждение и вращение подложек во время процесса
• Возможность установки системы оптического контроля для отслеживания оптических свойств растущей пленки
• Быстрый и удобный доступ к каждому модулю и ко всей камере
• Регулируемое расстояние от распыляемой мишени до подложки (до 135 мм)
• Несколько установок Radiance BPM могут быть соединены друг с другом, а также с Radiance SPM в одну производственную линию
• ПО с дружественным интерфейсом, позволяющее пошагово отслеживать и создавать процесс от откачки до напуска.